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第170章 EUV光刻机?

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响十分之严重。

因为偏差一点就会把整个芯片损坏,毕竟那可是几十纳米的大小,光照到了不该照的地方,最后制造成成品时肯定会短路!

所以为了解决成像误差,光刻机就需要非常多的镜片来解决成像误差的问题。

这也是为什么很多昂贵的摄像机或相机的镜头,为什么会那么长。

原因其实和光刻机面临的问题一样,为了解决成像误差的问题,所以相机镜头里面有着非常多的镜片!

这些镜片都是高精度镜片,相互之间精度要求非常之高,所以会出现一个镜头会比相机还贵的现象。

而且别的不说,就说后世的手机镜头模块里面,其实有着五到六片镜片!

而光刻机自然比相机与手机镜头要求高,所以现在的光刻机随着越来越深入几十纳米的层次。

要求越来越高,镜片的数量也越来越多,目前的光刻机镜片已经达到了十六到二十个镜片。

此时的人们不知道的是,在后世能生产几纳米芯片的EUV光刻机镜片已经达到了二十九个!

这也是为什么林轩情愿花费一亿资金,也要把那堪称破烂的凤凰公司收购的原因。

因为这些镜片的要求太过严苛,为了那几个专精于镜面打磨的八级工,林轩也是舍得出一亿的资金把他们买下来!

“我们还是让林轩先生来决定到底怎么样吧。”

人群的前排中,王院士看着隐隐有开始争吵的趋势的诸位博士们与研究生们,他缓缓开口说着。

随着王院士的开口,瞬间,现场陷入了寂静。

随后人们将视线看向了林轩这里,在上千双眼睛的注视下,林轩也是缓缓开口道:

“关于光刻机的问题,我的决定是直接放弃深紫外光(DUV)光刻机,直接研发极深紫外光(EUV)光刻机!

而且EUV光刻机还没有太多公司进入这个领域,在这个领域中也没有太多专利,正好方便我们自由发挥设,设计难度也大幅降低。”

听到林轩的决定,现场顿时有博士摇头不认同直接跳过EUV光刻机,直接研发EUV光刻机这点。

“林先生,虽然因为有 KBBF晶体的原因,我们在光源上有优势。

但镜平还有成像定位系统可是一个难题,而且光刻机的零件性能要求十分之高,精度也十分之高,这种程度的要求我们能造得出来吗?

我不是说设计的问题,而是我们有那个


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