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第351章 简单粗暴的技术突破

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世的半导体行业爆产能,热屏技术也做出了突出的贡献。后世的电子产品的消费者,实际上,也是单晶炉热屏技术的受益者。

……

1986年7月,蒙欣率领下单晶炉热屏技术,迅速从理论变成实际的产品。

这项成果本质上并不是太难,成本也不是很高。在成本大概5000多块钱的国产单晶炉里面,增加一个固定的组合件。大致上,仅需要不到1万元成本就可以将一台单晶炉改造成有固定热屏的新式单晶炉。

而目前进口的单晶炉,成本不低于1万美元一台,比国产的单晶炉更贵情况下,性能远远不如这种新式带热屏的单晶炉。

这种一万美元一台的设备,实际上顶多用3~5次就报废,需要更换新的单晶炉。当然了,国外有寿命更长的单晶炉,能用十次左右,但却是禁止对中国出口的。几十年后单晶炉寿命则是轻易的达到上百炉甚至更长久的寿命。当然了,配合热屏技术的话,晶圆生产的成本和效率,将达到80年代的半导体厂商难以想象的程度。

当然了,使用寿命更长的单晶炉,这则涉及到更复杂的材料学,并不是简单的弄出一份设计图纸就能搞出来。

“这个技术很厉害?”林棋毕竟不是理工狗,所以只知道CPU、显卡、内存、硬盘、显示面板等等普通消费者看见的摸得着的东西。

还有就是最复杂的光刻机,由于芯片加工都需要光刻机,光刻机也是晶圆加工工业中,最昂贵的设备。集成电路能集成多少晶体管,主要取决于光刻机的精度。所以,即使是小白,都知道光刻机非常关键!

相对于高大上的光刻机而言,单晶炉就显得很土鳖,很少有外行人关注单晶炉技术的发展。

“当然厉害了!决定芯片性能和产能的,不仅仅是光刻机,晶圆的产能和质量,也是非常关键和重要的技术。”蒙欣微笑说道,“仅凭着这项技术,至少可以给你的芯片节省30%的成本!品质更高的晶圆,也会让芯片加工的良品率更高、性能更好!其实短期内,光刻机的技术没取得突破,仅凭着单晶炉的技术突破,就足以让芯片产能、性能、成本等等指标,都获得大幅度的提升!”

“这么厉害!”林棋不仅感觉到惊讶。

“当然!换做是听你的,头疼医头,脚痛医脚,即使我现在就帮你改进光刻机技术,保守估计也需要一年以上时间,才能有成效。”蒙欣说道,“而且,我现在去给你研发2~1.5微米的光刻机,属于严重浪费宝贵的科研资源。


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