而且经过多重曝光。
居然达到了惊人的六十五纳米。
华光微电子的高层第一时间就把这个好消息通知了苏翰。
苏翰自然没什么好奇怪的。
在极紫外光技术没有获得突破之前，以前的地球就是用这种方法制造出更高精度的光刻机的。
所以成功不奇怪。
不成功才奇怪呢。
当然和光源一起突破的，还有苏翰的离轴同轴双工作台。
有了双工作台的加持，到时候芯片产量也会大幅增加。
……
就在这个时候AL公司也在进行浸没式光刻机的研发。
可以说已经到了成功的边缘。
只是让他们不知道的是，苏翰已经在全球各国注册了相关专利。
留给他们的只是一场空欢喜而已。
……
AM公司这边抢先一步发布了自己的全新芯片：alongII。
该芯片同样采用类似苏翰的叠加技术，但经过了多重曝光以后，加工工艺达到了一百三十纳米。
虽然还是双核心，但晶体管的数量，达到了两亿，已经是华龙H3的一倍以上。
经过测试各项性能全面超越华龙H3。
alongII成为市场上的新王者。
虽然多重曝光会降低良品率，但通过叠加技术，良品率还在能接受的范围。
不过成为旗舰芯片的好处可就太多了。
起码在售价上可以把华龙H3挤走。
独揽高端市场。
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