弄来了不少当时最牛的科学家团体。
并且在这之后，也通过高薪招聘，聘请了很多顶尖数学家、物理学家、化学家等等。
并且还是许多年第一时间发起了基因计划研究、深紫外光刻机等等。
不说基因计划的研究到底能干嘛，就说深紫外光刻机技术好了。
原时空历史上，最初的芯片制造工艺，那是遮蔽式光刻机，这玩意儿也叫接触式光刻机。
这种光刻机技术没啥优点，缺点却是一堆，比如良品率极低。
只因为在接触式光刻机中，涂有光刻胶的硅片与掩膜版直接接触，由于光刻胶和掩膜版之间紧密接触，因此可以得到比较高的分辨率。
接触式暴光的主要问题是容易损伤掩膜版和光刻胶。
当掩膜版与硅片接触和对准时，硅片上很小的灰尘就可能在掩膜版上造成损伤，这样在今后所有利用这块掩膜版进行暴光的硅片上都会出现这个缺陷。
因此采用接触式光刻很难得到没有缺陷的超大规模集成电路芯片，所以接触式光刻技术一般只适用于中小规模集成电路。
而接触式光刻机技术是六十年代的主流光刻机技术，到了七十年代的光刻机就进化成为了接近式光刻机。
接近式光刻机跟接触式光刻机类似，只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙，这个间隙一般在10～25微米之间。
此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤。
此外，接近式暴光的分辨率较低，一般在2～4微米之间，因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中。
接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。
直到七十年代末期，才有了投影式光刻机，这种光刻机技术就是现如今的主流光刻机的初代机了。
许多年在六十年代的时候，就已经组织科研人员进行这些方面的研究了。
芯片是未来啊！
而光刻机则是造芯片的最重要的设备之一，甚至是在原时空历史上，成为被卡脖子的技术之一。
后世那个时代，被卡脖子的技术可太多太多了，光刻机在二零四年的时候，都还没被解决掉呢。
还有核心工业软件、航空发动机短舱、核心算法、医学影象设备元器件、环氧树脂、高端电容电阻等等。
这些都是后世那个时空被卡脖子的核心科技。
许多年当然知道这些，因此在收购劳斯莱斯集团
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