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第二百七十三章:十纳米级的碳基芯片?

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他们以为自己尽量高估了韩元的科技,但没想到还是低估了。

别说皮米级的光刻机制备技术了,人类目前连两纳米级的光刻机技术都还没有突破。

一台光刻机,最难的点在于雕刻芯片用的‘刀具’,也就是紫外光光源。

当然,这里的光源指的是包括曝光系统、镜片、反光镜等整体的在内的光源控制系统。

从光源的输入,到让光线穿过层层叠叠的镜片多次折射不出偏差、到最终达到纳米级别的雕刻精度。

其难度之大,世界各国没有任何一家公司可以独立完成所有环节。

就比如风车国的amsl公司,这家全球最顶尖的光刻机生产公司,他们生产的光刻机,其配件来自世界各地。

而其中的关键,雕刻用的刀具就来自米国的光源、日耳曼国的镜头和机械技术。

就拿光刻机中的反射镜来说,如果反射镜的面积放到到整个日耳曼国那么大,那么最高凸起不能超过一厘米。

其镜片的打磨难度可想而知有多大。

但这些东西只有做到了真正意义上的顶尖,才符合制造顶尖光刻机的要求。

其他国家根本就没有能力去生产这些顶级的东西。

而然即便是这样,目前世界上顶级光源在精度上也没法超过两纳米。

因为光源的波长限制了。

目前米国提供给amsl公司的光源是极紫外光,也是最先进的‘euv光刻机’上使用的光源。

这种光源的波长能控制到十纳米,已经是极限了。

不过利用平滑衍射效应、光强调节等复杂的曝光控制系统,它能对低于十纳米的曝光区域进行曝光雕刻处理。

这也是为什么十纳米的波长光源能生产出五纳米芯片的原因。

但皮米级的芯片,光源的波长恐怕得控制在一纳米以下。

一纳米的光波长度啊,听起来就让人感觉匪夷所思不可思议。

要知道一个光子能量的多少与波长和频率相关,波长越短,频率就越快,能量越高。

频率越快,能量越高,对光源的控制和收集也就越难。

就目前的极紫外光,光源工作时,需要以5万次/秒的频率,用功率20千瓦的激光来击打真空中20微米大小的锡滴,使液态锡汽化为等离子体,从而产生波长短的极紫外光。

而产生还只是第一步,产生之后,这些波长极端的光源会在真空中乱跑,还


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