的自力更生。
韩松林却不知道谢逸云所虑，对于他来讲，才130纳米制程的光刻机是不够的。
要的，是10纳米，甚至更低的7纳米，乃至5纳米的光刻机。
至于说硅基芯片越来越多物理极限的事情，这并不是光刻机厂商应该考虑的事情。
硅基芯片到了物理极限，还有石墨烯芯片呢！
至于说什么时候石墨烯芯片能能够搞出来，甚至永远都搞不出来？
反正不急嘛，总是能够找到替代材料的。
不然搞量子计算机也可以的嘛。
“我们的目标，不仅仅是要追上国外，还得要超越。成为行业的领导者，当之无愧的霸主。”
谢逸云：“我们会努力的！”
接下来，又是去看sw2003。
sw2003依旧采用的深紫外光源，只不过这还只是一台原型机，想要正式的量产还有这不少的问题。
预计将在后年能够正式的量产。
sw2003光刻机是90纳米制程当今世界上最先进的光刻机之一。
sw2003光刻机是第四代步进时扫描投影光刻机，采用arf光源，波长193nm，是当今世界的主流光刻机就在这个阶段。
“我记得，还有一种浸没式步进扫描投影光刻机，那研究得如何了？”
sw2003即使再怎么的研究，也就只能够到65纳米制程就没有办法再提升了。
而浸没式光刻机最高工艺节点能够到45-22纳米。
也就是说，22纳米继续往下走，就只能够euv光刻机。
提出浸没式光刻机的人，可就在星达科技。
“预计在明年的时候，能够做出原型机，想要实现量产的话，估计得要到2005年才行。”说到这个，谢逸云相当的无奈。
光刻机越往下走，难度变得越发大了起来。
申微在euv光刻机的研制上面也遇到了极其大的困难，可asml可宣称要在明年的时候就推出euv光刻机。
最新接到的情报，asml公司在研制euv光刻机上面也遭遇到了困难，明年推出euv光刻机显然变得不现实。
可对于申微来说，压力依旧的是相当大。
韩松林轻轻的点了点头，2005年，并非说就等不起。
接下来，自然参观了车间。
“咦，这台是？”
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